Công nghệ 90 nanometer- bước đột phá mới trong sản xuất chip vi xử lý

Quy trình sản xuất 90 nm tổ hợp các transistor tốc độ cao - tiêu thụ ít năng lượng, silic biến dạng, liên kết đồng tốc độ cao và chất điện môi âm cực thấp. Tiến sĩ Sunlin Chou, phó chủ tịch cao cấp của Intel, cho biết công nghệ tổ hợp này sẽ cho phép có được các sản phẩm tốt với chi phí giảm hơn. Công nghệ 90 nm là mới nhất sau công nghệ 0,13 micron là công nghệ mới nhất hiện đang sử dụng để sản xuất các bộ vi xử lý mạnh nhất hiện nay như Pentium 4.

Quy trình sản xuất 90 nm của Intel sẽ tạo ra các transistor có chiều dài chỉ 50 nm. Ðể so sánh, các transistor cao cấp nhất hiện đang được sử dụng trong các bộ xử lý Pentium 4 có kích thước 60 nm. Các transistor nhỏ và có tốc độ cao là bộ phận cấu thành nên các bộ xử lý tốc độ cao. Các bộ xử lý này có các cổng oxide có kích thước chỉ cỡ vài lớp nguyên tử (1,2 nm). Kích thước cổng oxide càng mỏng thì tốc độ bộ xử lý càng cao.

Tháng 2 năm nay, Intel đã sử dụng công nghệ sản xuất 90 nm để sản xuất chip SRAM  lớn nhất thế giới với dung lượng 52 megabit (có khả năng lưu trữ 52 triệu bit dữ liệu).  Các chip chức năng đầy đủ này chứa 330 triệu transistor trong một diện tích 109 mm2 – tương đương kích thước một cái móng tay. 

Các chip này cũng sử dụng SRAM có kích thước nhỏ nhất, chỉ cỡ 1 micron vuông. Ðể dễ so sánh, một hồng cầu có kích thước lớn hơn SRAM này 100 lần.  Các nhà nghiên cứu của công ty hy vọng sẽ có 3 cơ sở sản xuất wafer 300 mm sử dụng quy trình 90 nm vào năm 2003.  Một trong những chip được sản xuất sử dụng quy trình này sẽ là bộ xử lý có tên mã Prescott, sẽ được giới thiệu ra thị trường vào nửa cuối năm 2003.